일반기술

고에너지 전자빔을 이용한 표면 합금화층 형성 방법

고에너지 가속 전자빔 투사방법에 의한 표면 합금화층 형성 방법에 관하여 개시한다. 이는, (a) 표면 합금화 재료를 준비하는 단계와 (b) 상기 표면 합금화 재료를 모재 금속 표면에 도포한 후, 가압하는 단계 및 (c) 상기 표면 합금화 재료가 도포된 모재 금속 표면에 가속 전자빔을 투사하는 단계를 포함하여 진행하는 것을 특징으로 한다. 이로써, 고에너지 가속 전자빔 투사방법은 전자를 고속으로 가속시켜 1.0 내지 2.5MeV의 높은 에너지를 갖는 가속 전자빔을 이용함으로써 대기 중에서의 투과가 가능하고, 제조공정이 간단하며, 열효율이 약 80%로 매우 높아서 시간과 비용이 적게 들며, 연속적인 표면 합금화층을 형성할 수 있다. (a) 표면 합금화 재료로 붕소화티타늄(TiB 2 ) 분말과 모재 금속으로 Ti-10V-2Fe-3Al 티타늄 합금을 준비하는 단계; (b) 상기 준비된 표면 합금화 재료를 티타늄 합금 표면에 도포한 후, 가압하는 단계; 및 (c) 상기 표면 합금화 재료가 도포된 티타늄 합금 표면에 전자빔 에너지는 1내지 2.5 MeV, 투사에너지밀도는 4 내지 5㎾/㎠인 조건에서 가속전자빔을 투사하는 단계를 포함하여 진행하는 것을 특징으로 하는 고에너지 전자빔을 이용한 표면 합금화층 형성 방법.