일반기술

나노미터 수준의 고정밀 패턴 형성방법

본 발명은 나노미터 수준의 고정밀 패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 자기조립 단분자층을 이용하여 표면에 나노미터 수준의 고정밀 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다.; 본 발명은 치환된 말단 고리를 갖는 방향족 이민 분자층을 기질상에 형성하고, 상기 방향족 이민 분자층의 치환기를 선택적으로 결합 절단시키며, 치환기가 선택적으로 결합 절단된 상기 방향족 이민 분자층을 가수분해하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 수준의 패턴 형성 방법을 제공한다.; 본 발명에 따르면, 기질 표면에 친수성과 소수성으로 구별되는 고정밀 나노패턴을 단시간 내에 원하는 모양으로 형성할 수 있고, 반도체 재료분야 및 고집적 바이오 칩을 개발하는 데 유용하다. 니트로기 또는 할로겐기로 치환된 말단 방향족 고리를 갖는 방향족 이민 분자층을 기질 상에 형성하는 단계; 소프트 X-선을 조사하여 상기 방향족 이민 분자층의 상기 치환기를 선택적으로 결합 절단시키는 단계; 및 상기 치환기가 선택적으로 결합 절단된 상기 방향족 이민 분자층을 가수분해하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 수준의 패터닝 형성 방법.