일반기술
리가 공정을 이용한 삼각 산맥구조물과 그 성형틀 제조방법
본 발명은 리가 공정을 이용한 삼각 산맥 구조물과 그 성형틀 제조방법에 관한 것으로, 특히 기판 상부에 X-선 감광제를 접합하고, X-선 투과층 상부에 삼각 산맥 구조물의 영역을 정의하는 X-선을 흡수하는 물질로 이루어진 마스크 패턴을 형성하고, X-선 감광제와 마스크 패턴을 밀착시키고 X-선 투과층에 서로 다른 입사방향의 경사진 각도로 2번 노광을 실시하고, X-선 노광을 한 뒤에 X-선 마스크와 감광제를 분리한 후 X-선 감광제를 현상하여 기판 상부에 삼각 산맥 구조물 패턴을 형성하고, X-선 감광제 상부에 시드층을 형성하고 금속층을 두껍게 형성한 후에, 삼각 산맥 구조물 패턴 및 기판을 모두 제거하여 삼각 산맥의 피크 끝 부분이 날카로운 미세 삼각 산맥 구조물의 성형틀을 제작할 수 있다. 그리고, 본 발명은 삼각 산맥 구조물의 성형틀에 연성의 성형물질을 붓고 이를 성형한 후에, 성형틀에서 굳은 성형물질을 분리하여 항력을 효율적으로 감쇠시키면서 곡면 등에도 적용할 수 있는 피크가 날카로운 유연한 미세 삼각 산맥 구조물을 제조한다. 또한 금속 물질로 제조된 성형틀은 사출 성형, 압출 성형 또는 핫 엠보싱 공정 등의 금형 공정에 사용할 수 있으므로 금형 공정들을 통해 미세 삼각 산맥 구조물의 대량생산도 가능하다. 두개 이상의 삼각 산맥 피크와 그 사이에 적어도 하나 이상의 골짜기가 있으며 상기 삼각 산맥 피크 및 골짜기는 병렬로 배치된 삼각 산맥 구조물의 성형틀 제조방법에 있어서, 기판 상부에 X-선 감광제를 접합하는 단계; X-선 투과층 상부에 삼각 산맥 구조물의 영역을 정의하기 위하여 X-선을 흡수하는 물질로 마스크 패턴을 형성하는 단계; 상기 X-선 감광제와 상기 마스크 패턴을 밀착시키고 상기 X-선 투과층에 서로 다른 입사 방향의 경사진 각도로 2번 노광을 실시하는 단계; 상기 마스크 패턴 및 X-선 투과층을 분리하고 상기 노광된 X-선 감광제를 현상하여 상기 기판 상부에 삼각 산맥 구조물 패턴을 형성하는 단계; 상기 삼각 산맥 구조물 패턴이 형성된 기판 상부에 금속층을 두껍게 형성하는 단계; 및 상기 삼각 산맥 구조물 패턴 및 기판을 모두 제거하여 상기 금속층으로 이루어진 삼각 산맥 구조물의 성형틀을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 리가 공정을 이용한 삼각 산맥 구조물의 성형틀 제조방법.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 소자 (B63)
- 보유기관
- 포항공과대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-08-10
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.