일반기술

유리 나노 가공 방법

본 발명은 유리 나노 가공 방법에 관한 것으로, 유리 기판 위에 분자 치환층을 형성하는 분자 치환층 형성 단계와, 유리 기판 위에 가공하고자 하는 형상과 대칭되게 분자 치환층을 패터닝(patterning) 하는 패터닝 단계와, 유리 기판의 결정 원자와 분자 치환층을 이루는 원자를 서로 치환시키는 분자 치환 단계와, 유리 기판으로부터 패터닝된 분자 치환층을 제거하는 분자 치환층 제거 단계, 및 유리 기판에서 분자 치환된 부분의 깊이 조절을 통하여 식각 가공하는 가공 단계를 포함한다. 유리 기판 위에 유리 결정 원자보다 결정 원자의 사이즈가 크고, 전하차가 하나 이하인 분자 치환층을 형성하는 분자 치환층 형성 단계, 상기 유리 기판 위에 가공하고자 하는 형상과 대칭되게 상기 분자 치환층을 패터닝(patterning) 하는 패터닝 단계, 상기 유리 기판의 상기 유리 결정 원자와 상기 분자 치환층을 이루는 결정 원자를 서로 치환시키는 분자 치환 단계, 상기 유리 기판으로부터 패터닝된 상기 분자 치환층을 제거하는 분자 치환층 제거 단계, 및 상기 유리 기판에서 분자 치환되어 유리 결정 구조가 약화된 부분을 식각하여 가공하는 가공 단계 를 포함하는 유리 나노 가공 방법.