일반기술

소수성 표면을 갖는 고분자 기재의 제조 방법 및 이 제조 방법으로 제조된 고분자 기재

본 발명은 소수성 표면을 갖는 고분자 기재의 제조 방법 및 이 방법으로 제조된 고분자 기재에 관한 것으로서, 상기 제조 방법은 광경화성 수지 조성물을 기판에 도포하고, 일정 패턴이 형성된 소수성 표면을 갖는 소수성 템플레이트(template)를 상기 광경화성 수지 조성물 위에 위치시키고, 상기 광경화성 수지 조성물을 고화시켜 광경화성 수지층을 형성시키고, 상기 소수성 템플레이트를 상기 광경화성 수지층으로부터 분리하는 공정을 포함한다.; 본 발명은 화학적인 표면 처리가 아닌 공정이 간단한 UV 나노임프린트 리소그래피 기술을 이용해, 소수성 식물잎이 지닌 표면 구조를 광경화성 수지 위에 패터닝하는 방식으로, 쉽게 접근이 가능한 방식의 제작 방법이다. 또한 기존 방법들과는 달리, 식물 잎이 지는 구조를 내구성 조절이 가능한 광경화성 수지 위에 모사해서 제작하였기에, 열악한 외부 여건에서도 장시간 큰 변형이나 성질 변화 없이 사용이 가능하다. 그리고 본 발명으로 제작한 구조물은, 소수성으로 인한 자기 세척 효과가 요구되는 주방기구/의류/건축/도료/타일 사업, 유동저항 감소가 중요시되는 항공/선박/자동차 산업 등에 응용이 가능하다. 이외에도 마이크로 칩 분야에도 적용 가능하다. 광경화성 수지 조성물을 기판에 도포하고; 일정 패턴이 형성된 소수성 템플레이트(template)를 상기 광경화성 수지 조성물 위에 위치시키고; 상기 광경화성 수지 조성물을 고화시켜 광경화성 수지층을 형성시키고; 상기 소수성 템플레이트를 상기 광경화성 수지층으로부터 분리하는 공정을 포함하는 상기 소수성 템플레이트 패턴에 대응되는 역패턴이 표면에 형성되고, 소수성 표면을 갖는 고분자 기재의 제조 방법.