일반기술

조절된 아민기 밀도와 공간을 제공하는 분자층을 표면에 포함하는 기질 및 이의 제조방법

본 발명은 바이오칩등의 기질로 사용될 수 있는, 저밀도 아민기를 함유하는 분자층을 표면에 포함하는 기질에 관한 것이다.; 본 발명은 이를 위하여, N-CBZ-[1]amine-[9]acid로 대표되는 카르복시산을 가지는 화학식 1의 화합물 및 이의 제조방법을 제공하며, 아미노실란화된 기질표면의 아민기와 삼각뿔 형태의 화학식 1의 화합물을 반응시켜 제조되는 분자층을 표면에 포함하는 기질 및 이의 제조방법을 제공한다.; 본 발명에 따르면 아미노실란화된 기질표면에서의 아민기 밀도를 대폭 감소시킬 수 있고, 낮은 아민기 밀도를 갖는 동시에 아민기간의 거리가 일정한 고체 기질은 DNA 칩이나 바이오칩을 개발하는데 중요한 기능을 수행할 수 있으며, 이밖에도 기질 표면에 원하는 분자들을 고정하고, 이들의 성질을 밝히는 표면연구에 사용할 수 있다. 하기 화학식 1로 표시되는 화합물: [화학식 1] [IMAGE 10] 상기 식에서, R은 페닐이거나, 니트로기, 할로겐, 또는 시아노기로 치환된 페닐, 나프틸, 또는 안트릴이다.