일반기술
미세 입자의 제조방법 및 그 장치
본 기술은 미세 입자의 원료가 되는 고체 분말을 소정의 형틀 내에서 가압, 가열하여 고형화시킨 후에 고형화된 고체 시편을 펄스 레이저를 이용하여 미세 입자화함으로써 미세입자의 생성 효율을 향상시킨 미세입자의 제조 방법 및 그 장치에 관한 것이다. 본 기술에 따른 장치는, 미세 입자를 생성하기 위한 원료로서의 고체 분말을 가압, 가열하여 고형화된 고체 분말 덩어리 시편을 만들기 위한 가압 가열수단 및 고형화된 고체 분말 덩어리 시편에 레이저 펄스를 조사하여 어블레이션시켜 미세 입자를 생성하기 위한 수단을 포함하여 된 것을 특징으로 한다. 미세 입자를 제조하는 방법에 있어서, 미세 입자를 생성하기 위한 원료로서의 고체 분말을 가압, 가열하여 고형화된 고체 분말 덩어리 시편을 만드는 단계 및 고형화된 고체 분말 덩어리 시편에 레이저 펄스를 조사하여 어블레이션(ablation) 시켜 미세 입자를 생성하는 단계를 포함하여 된 것을 특징으로 하는 미세 입자 제조방법이다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 소자 (B63)
- 보유기관
- 포항공과대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-08-10
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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