일반기술

단일 공정을 통해 ITO 유리표면에 아민기 함유 분자층을 형성하는 방법

본 발명은 ITO 유리 표면에 소량 존재하는 친핵성 작용기인 히드록시기와 아지리딘 또는 아지리딘 동등체(equivalent)를 직접 반응시킴으로써 단일공정을 통해 기질 표면에 높은 밀도의 아민기를 가지는 분자 층을 도입하는 방법에 관한 것으로, 본 발명의 방법에 의하면 ITO 유리 표면에 아민기를 포함하는 분자 층을 간편하게 도입할 수 있으므로 생체 분자를 포함하는 많은 분자들을 표면에 화학결합을 통해 부착시킬 수 있고, 단백질 칩 등 대부분의 생체 분자 칩을 제작하는데 있어 기본적인 기술을 제공할 수 있으며, 표면에서의 분자 특성 연구에도 중요한 역할을 할 수 있다. 또한 본 발명은 차세대 디스플레이로 각광받고 있는 유기 EL 또는 고분자 EL의 기판으로 사용되는 ITO 유리 표면에 화학결합을 통해 유기분자를 부착할 수 있는 방법을 제공한다. ITO 유리 기판 표면상의 히드록시기를 산촉매 존재하에서 아지리딘 또는 아지리딘 동등체(equivalent)와 직접 반응시키는 단계를 포함하는, ITO 유리 표면상에 아민기 함유 분자층을 형성시키는 방법.