일반기술

나노 결정립 재료의 제조방법 및 그 제조장치

본 발명에 따른 나노 결정립 제조 방법은, 575 - 625℃ 온도의 등온 조건에서 중량 %로 Al: 6%, V: 4% 및 나머지 Ti으로 이루어지는 Ti 합금에 ECAP(Equal channel Angular Pressing) 가공을 하여 나노 결정립 재료를 제조한다. ; 상기 ECAP 가공의 가공속도는 0.44 mm/s 초과 - 3.2 mm/s 미만일 수 있으며, 1.3 mm/s 이상 - 2 mm/s 이하인 것이 바람직하다. 상기 ECAP 가공에 의한 변형량은 1 - 4 인 것이 바람직하고, 상기 ECAP 가공은 적어도 2회 반복될 수 있다. ; 상기 ECAP 가공 전에 상기 Ti 합금에 흑연을 도포하는 단계를 포함할 수 있다. 중량 %로 Al: 6%, V: 4%를 포함하고, 잔부가 Ti으로 이루어지는 Ti 합금을 ECAP(Equal channel Angular Pressing) 가공을 하여 나노 결정립 재료를 제조하는 방법에 있어서, 상기 ECAP 가공이 575 - 625℃의 등온에서 이루어지는 나노 결정립 재료의 제조 방법.