일반기술
열플라즈마 장치
본 발명은 열플라즈마 장치에 관한 것으로서 전원 공급부와 고온의 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 토치부와 상기 플라즈마 토치부에 수직 방향으로 결합되는 반응 챔버와 시료가 수용되는 상기 반응 챔버화 연결되며 상기 반응 챔버로 부터 금속 나노 분말을 수거하는 포집부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 열 플라즈마를 이용하여 다양한 형태의 시료를 사용가능한 나노 입자로 제조할 수 있으므로 불순 성분의 가스를 제거하기 위한 디스플레이 장치에 적용할 수 있는 고다공성 게터를 용이하에 제조할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술
- 보유기관
- 호서대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-11-07
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.