일반기술
실리콘 고무 시트의 표면 개질 방법
본 기술은 실리콘 고무 표면을 산소 상압플라즈마로 개질하여 근본적으로 낮은 표면에너지를 가지기때문에 발생하는 실리콘 고무와 다른 재료간의 낮은 접착력을 개선하고자 하는데 그 목적이 있는 기술이다.표면에 개질된 실리콘 고무는 그 표면에서 극성을 띄게 되어 다양한 극성재료와의 친화력이 증대되어 접착력이 뚜렷하게 개선되는 한편, 인체와 근접한 물질로 활용될 경우 거부감의 정도가 줄어드는 장점이 있다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 재료 공정기술
- 보유기관
- 한국화학연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-12-03
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.