일반기술

마이크로파 응용 화학기술

<기술내용>화학물질 및 소재를 구성하는 성분/영역의 유전성질 (dielectric property)의 차이를 이용하여 마이크로파 (300 MHz~30 GHz 주파수 대역; 파장 1 cm ~ 1 m)를 물질 내부의 필요한 성분/영역에 직접 공급하여 가열하는 것에 바탕을 둔 새로운 화학공정기술이다.종래의 에너지 공급방법과 달리, 화학전환에 필요한 에너지를 물질내부에 적합한 형태로 직접 공급이 가능하기 때문에 i) 에너지효율 향상은 물론이며, ii) 신개념의 미세-정밀 공정기술을 구현할 수 있게 하며, iii) 제조공정의 개선 외에도 신물질/신소재/신공정 개발의 중추적 수단으로서 nano-tech이나 세포/단백질/분자 조작 등과 같은 첨단 신기술의 실용화에도 핵심 역할을 담당할 수 있다.<기술특징>표면으로부터 열전달이 일어나는 종래의 가열 방법과는 달리 물질 내부의 특정 영역/구성성분에 소요 에너지를 선별적으로 공급하는 것이 가능하여 종래의 가열방법에서는 기대할 수 없는 물질 내부의 선택적 가열 효과를 통해 에너지 절감, 화학공정 효율 및 품질 향상이 가능하며 신제품/신소재/신공정 개발의 핵심 수단이 될 수 있다. 마이크로파 응용을 위한 핵심기술에는 (i) 전자기장 하에서의 화학적 반응/조작 기술, (ii) 마이크로파를 장치내부에 필요한 형태로 공급/분산시킬 수 있는 파의 공급 기술, (iii) 응용 목적에 적합한 공정 장치 구조/사양 결정, (iv) leak 방지 기술 등과 같이 화학 및 소재, 공정/장치, 전자기학 등의 기술이 복합적으로 요구됨- 종래의 가열 방법 (연소로, 스팀, 전기저항 가열 등)에 비해 가열 시간 단축, 에너지 효율, 품질 향상, 자동화, 부산물 저감, 공간절약, 작업환경 개선 등의 효과 - 선진국도 기술의 도입기에 머무르고 있어 산업경쟁력 확보에 유리

기술정보

기술분류
화학공정 > 기타 화학공정
보유기관
한국화학연구원
기술유형
일반기술
등록일
2007-12-03
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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