일반기술

무기고분자형 네가티브 포토레지스트 조성물

○ 기술발명의 목적 : 새로운 무기고분자형 네가티브 포토레지스트 중합체 및 그의 조성물을 제공하여 다양한 응용분야에 적용 가능하도록 하는 것이며,본 발명은 최대 1cm, 최소 10nm 크기의 2차원, 3차원 미세 무기고분자 및 세라믹 패턴/구조물을 제조하기 위한 것으로, 각종 리소그래피 공정에 사용할 수 있는 무기고분자형 네가티브 포토레지스트 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 기술은 포토레지스트 조성물을 이용하여 포토레지스트 세라믹 패턴을 형성하는 방법 및 이러한 방법에 의해 제작한 구조물을 제공하는 것을 목적으로 한다.○ 기술 요약 및 특징 : 따라서 본 발명은 새로운 무기고분자형 네가티브 포토레지스트 중합체 및 그의 조성물을 제공하여 다양한 응용분야에 적용 가능하도록 하는 것이며, 본 발명은 최대 1cm, 최소 10nm 크기의 2차원, 3차원 미세 무기고분자 및 세라믹 패턴/구조물을 제조하기 위한 것으로, 각종 리소그래피 공정에 사용할 수 있는 무기고분자형 네가티브 포토레지스트 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 상기 포토레지스트 조성물을 이용하여 포토레지스트 세라믹 패턴을 형성하는 방법 및 이러한 방법에 의해 제작한 구조물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한 본 기술은 자외선 또는 전자빔에 의해 신속한 광가교 특성을 가진 무기고분자를 합성 개발하고, 이를 각종 가교 개시제 및 첨가제와 혼합함으로서 최적의 가교 특성을 가진 무기고분자형 네가티브 포토레지스트 조성물을 제조한다. 또한 이를 활용하여 안정된 물성을 가진 세라믹 패턴 및 미세 구조물을 제조함으로서 향후 새로운 응용분야를 개발하고자 한다.