일반기술

표시기판의 제조방법 및 이를 이용한 표시패널의 제조방법

*기술의 개요본 기술의 목적은 배향막 표면의 미세 입자를 제거하여 영상의 표시품질을 향상시킨 표시기판의 제조방법을 제공하는 것이다.본 기술의 다른 목적은 표시기판 제조방법을 이용하여 표시패널을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.*구성 및 작용본 기술의 목적을 달성하기 위해 제시되는 일 실시예에 따른 표시기판의 제조방법은 투명기판 상에 배향막을 형성하는 단계 및 배향막의 표면을 플라즈마 처리하여 불순물을 제거하는 단계를 포함한다.이때, 플라즈마 처리는 상압 및 진공 중 어느 하나의 상태에서 이루어질 수 있고, 플라즈마 처리를 위한 가스는 산소 가스 및 불활성 가스를 포함할 수 있다.플라즈마 처리 후의 배향막 표면의 탄소 함유량은 20% 이하인 것이 바람직하며, 플라즈마 처리 후의 배향막의 표면 에너지는 62mJ/m2 이상인 것이 바람직하다.선택적으로, 배향막은 액정을 배향막의 표면에 대하여 수직하게 배열시키는 수직 무기 배향막일 수 있고, 수직 무기 배향막은 산화 실리콘(SiOx)으로 이루어지는 것이 바람직하다.이러한 본 기술에 따르면, 배향막의 표면에 형성된 불순물을 플라즈마 처리에 의해 제거함으로써, 배향막의 배향 특성의 저하를 방지하여 표시패널의 표시품질을 보다 향상시킬 수 있다.*기대효과본 기술에 의하면, 어레이 기판 또는 컬러필터 기판의 배향막의 표면에 형성된 불순물을 플라즈마 처리에 의해 제거함으로써, 배향막의 배향 특성의 저하를 방지하여 표시패널의 표시품질을 보다 향상시킬 수 있다.앞서 설명한 본 기술의 상세한 설명에서는 본 기술의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 기술의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 기술을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.