일반기술

고품위 유도결합 플라즈마 리액터

본 발명은 고품위 유도결합 플라즈마 리액터로서, 생성된 플라즈마를 유지할 수 있는 공간을 형성하며 플라즈마 반응공정을 수행하는 챔버와, 상기 챔버 내에 플라즈마를 형성하는데 필요한 고주파 전력을 공급하는 전력공급부와, 고주파 전력공급부와 부하사이의 전력을 유효하게 전송하여 전력전송을 최적화 시키는 정합장치와, 상기 챔버 내에 플라즈마를 형성하기 위해 상기 전력공급부로부터 출력되는 고주파 전력을 공급받아 전기장 및 자기장을 생성하는 안테나와, 상기 챔버의 외부에 웨이퍼를 중심으로 대칭인 코일을 상하에 설치하고 저주파 및 저전류를 인가함으로써 반응챔버 내부에 축방향으로 일정한 크기(예: 30가우스 미만)의 약자기장을 인가해주는 헬름홀츠 코일과, 상기 챔버 내부에 형성되는 플라즈마 반응에 의해 처리되는 대상물을 지지하고 온도 유지를 위한 웨이퍼 스테이지 및 지지대와, 이온 에너지 조절용 바이어스 RF 전력공급부와 바이어스 RF 전력공급부의 최대 전력전달을 위한 정합장치를 포함하여 구성되며, 상기헬름홀츠 코일에 직류와 교류를 조합하여 시간에 따라 변하는 축방향 자기장을 다양한 주기로 조절함으로써 생성된 플라즈마를 효과적으로 흔들며 에너지를 공급하는 공명 효과를 발생함으로 인해 플라즈마 밀도는 증가시키고, 전자온도는 낮추며, 실제 애싱이나 에칭공정에서 기존의 플라즈마 상태에서의 공정보다 향상된 균일도와 제거율 등을 얻을 수 있다.