일반기술
반도체 표면의 철 오염 물질을 제거하는 방법
본 발명은 반도체 표면 위의 철 오염 물질을 제거하는 건식 세정 기술에 관한 것으로서, 구체적으로는 UV/O 3 에 반도체 기판을 노출시키는 단계; 원격 수소 플라즈마에 반도체 기판을 노출시키는 단계; 및 선택적으로 반도체 기판을 열처리하는 단계로 이루어지는 반도체 표면 위의 철 오염 물질을 제거하는 방법에 관한 것이며, 본 발명의 방법은 철 오염 물질의 제거 효율이 우수하고 사용 장치를 부식시키지 않는 장점을 갖는다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 산업용 전기전자
- 보유기관
- 인하대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-12-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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