일반기술
3차원 반도체 식각 공정 시뮬레이션을 위한가시도 계산 방법
본 발명은 반도체 식각 공정을 위한 3차원 시뮬레이션 방법에 관한 것으로서, 특히 기판 표면으로 입사하는 입자의 가시도(VISIBILITY) 계산에 소요되는 시간을 효율적으로 감소시키는 알고리즘을 적용하여 계산의 효율성을 높이기 위한 반도체 식각 공정 시뮬레이션 방법을 제공한다.본 발명의 가시도 계산 방법은 식각 공정 시뮬레이션을 수행할 때, 마스크 윈도우를 통과하여 기판으로 입사하는 입자의 분포를 계산하는 단계에 있어서, 가시도를 계산할 때 수행하는 그림자 테스트(SHADOW TEST)의 횟수를 감소시키는 것을 특징으로 한다.이와 같이 본원 발명은 가시도를 계산할 때, 그림자 테스트의 횟수를 감소시킴으로써, 컴퓨터의 중앙 처리 장치가 수행하는 계산의 횟수와 시뮬레이션을 수행하는데 소요되는 시간이 지연되는 문제점을 해결한다.
기술정보
- 기술분류
- 정보 > 기타 소프트웨어
- 보유기관
- 인하대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-12-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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