일반기술

고품위 테프론 필름 형성기술

본 발명의 유도결합 플라즈마 리액터는 생성된 플라즈마를 유지할 수 있는 공간을 형성하여 플라즈마 반응 공정을 수행하는 챔버; 플라즈마 형성에 필요한 고주파 전력을 챔버 내로 공급하는 전력공급부; 전력공급부와 부하사이의 최대전력 전달을 위한 제 1 정합장치; 전력공급부로부터 출력되는 고주파 전력을 공급받아 전기장 및 자기장을 생성하여 챔버 내에 플라즈마를 형성하는 안테나; 챔버의 외부에 웨이퍼를 중심으로 대칭인 코일을 상하로 설치되며 저주파 및 저전류를 인가받아 챔버 내부에 축방향으로 일정한 크기의 약자기장을 인가하는 헬름홀츠 코일; 헬름홀츠 코일의 각각에 직류전원과 교류전원을 공급하는 코일전력 공급부; 챔버 내부에 형성되는 플라즈마 반응 공정에 의해 처리되는 웨이퍼를 지지 및 온도를 유지하는 웨이퍼 스테이지 및 지지대; 이온에너지 조절을 위한 바이어스 RF 전력공급부; 및 바이어스 RF 전력공급부의 최대전력전달을 위한 제 2 정합장치를 구비하여, 박막형성용 유도결합형 플라즈마 소스에 축방향의 시변 자기장을 인가하여 다양한 파동 모드를 구현함으로써 고밀도의 플라즈마를 얻을 수 있으며 특히 활성화(radical)물의 선택적 조절이 가능하여 고품질의 테프론 박막을 얻을 수 있다.