일반기술

투명박막트랜지스터

본 발명은 NIOX, ALOX, 및 인듐-주석 산화물(ITO)을 각각 소오스 드레인(S/D) 전극, 게이트 절연체 및 게이트 전극으로 사용하고 펜타센을 활성층으로 하는 투명 박막 트랜지스터(TTFT)에 관한 것이다. 본 투명박막트랜지스터에서 게이트 절연체로 사용된 비정질 알루미늄 산화물은 2.3 NM의 표면제곱평균 거칠기와, 3MV/CM의 매우 우수한 절연강도 및 우수한 유전상수 K(약 6)을 가지며, 소오스 드레인 전극으로 사용된 산화니켈은 약 60Ω/SQ.의 면저항을 갖고 있다. 이와 같은 투명박막트랜지스터는 가시영역에서 약 25%의 투과도를 가지고, -40V의 게이트 바이어스에서 약 15ΜA의 최고 포화 전류를 가지며 전계 이동도 또한 0.9CM2/VS로 매우 높다. 상기 TTFT의 온/오프 전류비는 약 5X105 이다. 따라서, 본 발명은 투명 박막트랜지스터를 구현함과 동시에 매우 향상된 TFT 이동도를 얻을 수 있다.

기술정보

기술분류
물리학 > 기타 응집물질물리
보유기관
연세대학교
기술유형
일반기술
등록일
2007-12-27
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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