일반기술
실리콘 (Si) 나노구조체를 이용한 솔루션 베이스드 실리콘 (Solution based Si) 박막의 결정화 방법
본 발명은 비정질 실리콘 박막 TFT의 한계인 이동도를 높이기 위해 실리콘 나노구조체를 이용하여 비정질 Si 박막을 결정화 시키는데 목적이 있다. 본 발명은 실리콘 나노구조체의 높은 결정성을 이용하여, MIC, MILC, 레이저 결정화보다 더욱 낮은 온도에서 높은 결정성을 갖는 다결정 실리콘 박막을 얻는 것을 목적으로 한다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 재료 공정기술
- 보유기관
- 연세대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-12-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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