일반기술
산화물 박막 제조를 위한 졸겔법을 이용한 액상 제조 방법
본 발명에서는 현재 사용되는 PLD, Sputtering, CVD 등 진공장비를 이용한 산화물 박막이 아닌 액상제조방법에 의해 제조 된 산화물 박막에 초점을 맞추고 있다. 여기서 IGZO (In-Ga-ZnO), IZO (In-ZnO), SZO (Tin-ZnO), SGZnO (Sn-Ga-ZnO), ISZO (In-Sn-ZnO), TZO (Tl-ZnO), TGZO (Tl-Ga-ZnO)와 같은 산화물 박막의 액상제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 분석·물성평가 기술
- 보유기관
- 연세대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-12-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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