일반기술
패턴 형성방법, 패턴 형성방법을 이용한 자기저항 효과막 제조 방법 및 이에 의해 제조된 자기저항 효과막과 자기응용소자
패턴 형성방법, 패턴 형성방법을 이용한 자기저항 효과막 제조 방법 및 이에 의해 제조된 자기저항 효과막과 자기응용소자
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 연세대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-12-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.
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패턴 형성방법, 패턴 형성방법을 이용한 자기저항 효과막 제조 방법 및 이에 의해 제조된 자기저항 효과막과 자기응용소자
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