일반기술

탄소나노튜브의 표면 개질방법

본 기술은 탄소나노튜브의 표면을 개질하는 방법에 관한 것이다. 본 기술은, 원자이동 반응을 통해 유기 라디칼을 형성할 수 있는 유기 화합물을 준비하는 단계, 준비된 유기화합물, 탄소나노튜브, 전이금속 화합물, 리간드 및 환원성 금속 파우더를 포함하는 전이금속 착물을 유기용매에 혼합하는 단계, 원자이동 라디칼 첨가반응(ATRA)에 따라, 첨가된 유기 화합물이 전이금속 착물과 반응하여 유기 라디칼을 형성하고, 형성된 유기 라디칼이 탄소나노튜브의 표면에 공유결합을 형성하여 탄소나노튜브의 표면을 개질시키는 단계 및 표면이 개질된 탄소나노튜브를 여과하고 건조하여 수득하는 단계를 포함하여 진행하는 것을 특징으로 한다. 본 기술에 따르면, 다양한 유기화합물을 이용하여 그 표면에 공유결합시킴으로써 간편하게 탄소나노튜브의 표면을 개질할 수 있고, 이로써 기존에 문제시 되었던 탄소나노튜브의 고유의 용해성과 낮은 분산성을 향상시킬 수 있으므로, 탄소나노튜브의 응용분야가 더욱 확대될 수 있다.