일반기술

편광용 또는 정보보호용 필름의 제조방법

본 발명은 투명기판 일면에 투명 전극막을 형성하는 단계, 상기 전극막 상층에 나노임프린트 리쏘그라피법(Nano-Imprint Lithography: NIL)에 의하여 폴리머 패턴을 형성하는 단계, 상기 폴리머 패턴 사이의 전극막 상층에 금속층을 형성하는 단계 및 상기 폴리머 패턴 및 전도층 패턴상에 투명 보호막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 편광용 또는 정보보호용 필름의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 편광용 또는 정보보호용 피름에 관한 발명이다.이와 같이 본 발명의 편광용 또는 정보보호용 필름의 제조방법을 제공하면, 수십 나노 선폭의 패턴을 가지는 편광 필름을 손쉽게 제조할 수 있으며 전기도금법을 통해 금속층의 높이를 조절하여 최적의 편광 필름 및 정보보호 필름으로 사용 가능하고, 또한 디펙트(defect) 감소, 효율 및 강도 향상을 가져올 수 있으며, 폴리머 패턴의 균일성을 높여서 대면적에도 적용이 가능하다.