일반기술

반도체 리플로우 공정를 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 제조 방법 및 이의 방법에 의해 제조된 도광판

본 발명은 도광판의 마이크로렌즈 제조방법에 있어서, 빛이 통과되는 제1 영역과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역으로 이루어진 마스크를 포토레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시키는 제1 단계; 상기 제2 영역 상측에서 하측으로 조사되는 빛이 적어도 1방향 이상에서 비대칭 경사각을 갖도록 하기위해서 적어도 1회 이상의 경사 노광을 실시하는 제2 단계; 상기 경사 노광된 기판을 현상하여 비대칭 경사기둥 형태를 가진 다수의 포토레지스트를 얻는 제3 단계; 상기 비대칭 경사기둥 형태의 포토레지스트를 리플로우 공정을 통해 만곡시켜 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 형상을 얻는 제4 단계; 상기비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 형상의 포토레지스트가 음각되도록 하는 음각 스탬퍼를 제작하는 제5 단계; 및 상기 음각스탬퍼를 금형으로 하여 상기 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈가 양각된 도광판을 성형하는 제6 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈는 빛의 굴절과 난반사를 조절하는 기능이 강화되어 원하는 광학적 성능을 가지게 할 수 있고, 이와 같은 비대칭 다-곡률 마이크로렌즈 어레이를 통하여 도광판 등에 응용할 수 있는 효과가 있다.