일반기술
ＯＨ 라디칼 발생장치
OH 라디칼 발생장치가 제공된다.본 발명의 OH 라디칼 발생장치는 OH 라디칼과 오염물질을 반응시키는 반응챔버, 오염된 공기를 상기 챔버에 공급하는 에어펌프, 상기 에어펌프의 유량을 조절하는 유량제어기, 상기 챔버의 일측면에 장착되며 챔버내에서 OH 라디칼을 발생시키는 캡부재, 및 상기 캡부재에 전류를 공급하는 전원공급장치를 포함하고 있다. 따라서, 본 발명에 의하면 기체상의 거의모든 물질과 반응하며 반응성이 매우 큰 OH 라디칼을 공기 중 포함량이 가장 많은 수증기를 이용함으로써 용이하게 발생시킬 수 있을 뿐만 아니라, 그를 이용하여 유해물질의 제거효율을 높임으로써 오염된 대기중에 포함된 유해물질을 신속하게 제거할 수 있다. 또한, 실외 또는 실내 등 대상지역에 따라 크기를 다양화할 수 있을 뿐만 아니라 제작이 간단하면서도 저가로 제조할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 화학 > 반응속도론·반응메카니즘
- 보유기관
- 고려대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-04-07
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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