일반기술

포스트 플라즈마를 이용한 질화방법 및 장치

본 기술은 전처리 공정으로 질화 성능을 향상시키고, 질화 촉진제를 이용하여 신속한 질화 공정을 수행하며, 스크린망에 플라즈마를 생성하여 질화능을 향상시킬 수 있도록 한 포스트 플라즈마를 이용한 질화 방법 및 장치에 관한 것이다. 이를 위한, 본 기술의 포스트 플라즈마를 이용한 질화방법은, 시편 외부에 설치된 스크린망에 플라즈마를 생성시킨 후, 산화 및 환원성 기체에 의해 시편 표면의 잔류가스 및 불순물을 제거하는 표면 활성화 공정과 표면 활성화 공정을 거친시편에 질소와 수소와 질화 촉진제를 첨가한 질화제를 투입하여 질화시키는 질화층 형성 공정과 노 내부의 온도를 떨어뜨려 질화층 형성 공정을 거친 시편을 냉각시키는 냉각 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.또한, 본 기술의 포스트 플라즈마를 이용한 질화장치는, 노 내부에 시편을 장입하여 가열하는 경우 시편 외부에서 발생된 플라즈마에 기체를 통과시켜 시편을 질화시키는 장치에 있어서, 시편 외부에 플라즈마가 생성되는 스크린망을 설치하고, 스크린망 외측에는 다수의 가스홀을 갖는 가스관을 설치한 것을 특징으로 한다.