일반기술
은 나노입자를 함유한 저온소성 페이스트 조성물 및 이를 이용한 도전성 후막의 제조방법
본 발명은 나노 크기의 실버 분말과 유리 분말, 용매제인 비이클을 80:1:19의 중량비율로 이루어지는 은 나노입자를 함유한 저온소성 페이스트 조성물을 제공하기 위한 것으로, 본 발명은 나노 크기의 실버입자를 사용하는 저온소성 페이스트의 제조가 가능해지며, 이를 이용해 전극 제조시 저온 열처리에 의하여 우수한 박막을 형성할 수 있는 것이어서 재료의 낭비를 줄이고, 전극형상의 정밀도가 떨어지는 단점을 해결할 수 있는 매우 유용한 발명인 것이다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 재료
- 보유기관
- 조선대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2007-12-31
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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