일반기술

포토닉 크리스탈을 이용한 광회로 및 그 제조방법(Optical circuit using photonic crystal and fabricationmethod thereof)

기판 위에 하부 경계 결정 층을 형성하는 단계와; 하부 경계 결정 층 위에 가이드 코어 층을 형성하는 단계와; 가이드 코어 층 위에 상부 경계 결정 층을 형성하는 단계와; 설계된 광회로에 따라, 상부 경계 결정 층 및 가이드 코어를 에칭하여 광회로를 패터닝하는 단계; 및 광회로가 패터닝된 시편을 콜로이달 크리스탈에 담그고, 용매를 증발시켜 콜로이달 크리스탈을 고형화시켜, 패터닝된 광회로 주변에 포토닉 크리스탈을 형성시키는 단계를 포함한다.또한, , 기판과; 기판 위에 형성되는 하부 경계 결정 층과; 하부 경계 결정 층 위에 형성되며, 광신호를 전송하는 가이드 코어 층과; 가이드 코어 층 위에 형성되며, 1차원적으로 진행되는 파를 구속하는 상부 경계 결정 층; 및 설계된 광회로에 따라, 가이드 코어 및 상부 경계 결정 층을 에칭하여 패터닝된 영역에 마련되며, 2차원적으로 진행되는 파를 구속할 수 있도록 콜로이드 크리스탈을 고형화시킨 포토닉 크리스탈을 포함한다. 이와 같은 본 발명에 의하면, 콜로이달 크리스탈을 이용하여 포토닉 크리스탈이 마련된 광회로를 구현함으로써, 광경로의 구부러짐에 의해 발생되는 방사 손실을 감소시키고 소형의 광소자를 용이하게 제조할 수 있는 포토닉 크리스탈을 이용한 광회로 및 그 제조방법에 관한 것이다.