일반기술

반도체 레이저 장치의 제조 방법(fabrication method in semiconductor laser device)

미러면 처리를 할 때, 칩바 클리빙(chip bar cleaving)없이 웨이퍼(wafer) 기판상태에서 바로 공정을 진행함으로써, 복잡한 칩바 핸들링과정을 없애기 위한 것이다.

기술정보

기술분류
전기·전자 > 기타 전기/전자
보유기관
한국산업기술진흥원
기술유형
일반기술
등록일
2008-01-02
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

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