일반기술
플라즈마 처리를 이용한 청색 반도체 레이저의 제조 방법(production method for blue semiconductor laser usingplasma treatment)
종래 기술에서 실시하는 건식 식각과 활성화를 통한 질소 공간(nitrogen vacancy)을 낮은 파워의 플라즈마 처리를 이용해 효과적으로 질소를 공급 또는 패시베이션(passivation)함으로써, 전기적 특성을 개선하고 건식 식각으로 생긴 댄글링 본딩(dangling bonding)과 손상을 최소화하고 할 수 있고, 이에 따라서 박막의 특성을 향상시켜 줌으로써 특성이 양호한 반도체 레이저를 만들 수 있는 플라즈마 처리를 이용한 청색 반도체 레이저의 제조 방법에 관한 것이다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-01-02
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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