일반기술
선택적 열처리 장치
시료의 부분적인 열처리가 불가능하여 전체를 열처리 함으로쏘 연처리가 불필요한 부분의 전기적, 물리저그 기하학적 변형이 발생하는 종래기술의 문제점을 극복하기 위하여 열처리시 시료의 특정 영역의 선택은 물론 주입되는 불순물 중 특성불순물의 선택과, 시료의 증착 박막중 특정 박막만을 선택적으로 열처리 할 수 있도록 열원에서 발산되는 빛을 집속하여 필터를 통과시킨후 소정의 마스크를 거쳐 시료에 조사되도록 한 장치반도체 제조장치 중 특히 선택적 열처리 공정을 수행할 수 있도록 한 열처리 장치
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 전자부품
- 보유기관
- 한국전자통신연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2000-08-29
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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