일반기술
복수의 질화물 기판 성장 장치(Apparatus for growing multi-substrate of Nitridechemical semiconductor)
챔버내에서 하나의 갈륨 보트를 이용해 복수의 기판 상부에 질화물층을 동시에 성장시킬 수 있도록 하여 성장 장치의 크기를 줄이고, 갈륨 분자를 생성하는 분말의 불필요한 낭비를 방지하며 아울러 성장 장치의 온도 프로파일을 적절히 유지시키는 복수의 질화물 기판 성장 장치에 관한 것이다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-01-02
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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