일반기술
고분자 위에 접착력이 강한 금속 박막을 형성하기 위한 방법 및 장치
본 기술은 플라즈마 이온주입에 의한 고분자 표면위에 금속박막을 증착하는 방법 및 그 장치를 포함한다. 플라즈마를 발생시킨 후 금속 타겟에 음의 전압을 인가하여 스퍼터링시키고, 고분자 시료에 고전압 펄스를 인가하여 이온을 주입하는 방식으로 금속을 증착하는 것을 특징으로 하는 방법 및 장치를 제공한다. 본 기술에 따라 고분자 기판에 음의 펄스 전압을 가하여 플라즈마 이온 주입법과 금속 증착 방법을 융합하여 금속 박막을 증착하므로써 완만한 계면층을 형성하여 접착력을 향상시키는데 매우 효과적이다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 열처리 기술
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-01-08
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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