일반기술

엑스레이 노광기

기술의 개요 - 본 기술은 레지스트가 도포된 기판에 X-RAY 빔을 조사하여 기판에 패턴이 형성되도록 하는 노광기에 관한 것으로, 특히 기판과 마스크가 조사되는 X-RAY 빔에 대해 스캔모션 뿐 아니라 경사노광, 마스크와 기판의 상대모션 등을 수행할 수 있어 기판에 다양한 형상의 패턴을 가공할 수 있는 X-RAY 노광기에 관한 것이다.기술의 특징 - 레지스트가 도포된 기판이 장착될 수 있어 기판을 수직 및 수평 이동시켜 주는 기판 스테이지, 기판 스테이지 일측에 설치되어 마스크가 장착될 수 있어 마스크를 수직 및 기판 측으로 밀착되도록 이동시켜 주는 마스크 스테이지, 기판 스테이지 및 마스크 스테이지와 연결 설치되어 기판 스테이지와 마스크 스테이지를 수직 이동시켜 주거나 조사되는 X-RAY 빔에 대해 회전시켜 기판에 3차원 형상의 패턴이 형성되도록 하는 스캔 스테이지로 구성된다.기술의 효과 - 본 기술은 기판과 마스크가 조사되는 X-ray 빔에 대해 수직 및 수평 이동될 뿐 아니라 회전 이동될 수 있도록 설치되기 때문에 기판과 마스크의 장착 위치를 다양하게 가변시킬 수 있어 기판과 마스크가 스캔모션 뿐 아니라 경사노광, 마스크와 기판 사이의 상대 모션 등을 수행할 수 있으므로 간단하게 기판에 3차원 형상의 다양한 패턴을 형성시킬 수 있는 이점이 있다.