일반기술

마그네트론 스퍼터링 장치 및 그 동작방법

기술의 개요 - 본 기술은 평면 디스플레이 장치의 제조 공정 중 배선막 및 광학막을 형성하기 위하여 스퍼터링 수행시 사용되는 기판에 증착되는 물질로 이루어진 타겟을 효율적으로 사용할 수 있도록 하는 마그네트론 스퍼터링 장치 및 그 동작방법에 관한 것이다.기술의 특징 - 코팅하고자 하는 대상이 되는 기판과 기판 표면에 증착되는 코팅물질로 이루어지고, 음극이 인가됨에 따라 코팅물질을 기판으로 방출하는 타겟과 타겟에서 방출된 이차전자에 의해 이온화되어 코팅물질의 방출을 유도하는 불활성기체로 이루어진 이격부를 포함하여 구성되는 마그네트론 스퍼터링 장치에 있어서, 불활성기체의 이온화율 향상을 위해 타겟 표면에 자계를 형성하는 동시에 이온화된 불활성기체로 인한 타겟의 침식 부위가 분산되도록 자석의 극성이 가변되는 자계발생부를 포함하여 구성되어, 타겟면에 형성되는 자계를 가변시키는 것을 특징으로 한다.기술의 효과 - 본 기술은 타겟의 국부적인 침식현상을 분산시키고, 타겟 사용 효율성을 향상시킬 수 있으며 코팅 공정 전반의 가동율을 높일 수 있다.