일반기술
체적 탄성파 소자 및 그 제조 방법
기술의 개요 - 본 기술은 체적 탄성파 소자 및 그 제조 방법에 관한 것이다.기술의 효과 - 본 기술은 마스크로서 작용하는 유전체층의 제거를 통해 에어 갭(AIR GAP)을 형성함으로써 체적 탄성파 소자의 구조를 비교적 쉽게 형성할 수 있고, 또한 압전체로서 결함밀도가 낮은 측면 성장된 질화물 반도체를 이용함으로써 소자의 압전특성 등을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 측면 성장시 질화물계 반도체층에 실리콘(SI)이나 마그네슘(MG)을 첨가시켜 소자의 비저항을 조절하거나 인(IN)이나 알루미늄(AL)을 첨가시켜 압전 특성을 변화시킬 수 있는 등의 작업을 비교적 쉽게 수행할 수 있어 소자의 물성에 대한 제어가 용이하다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-01-21
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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