일반기술
근접장 광 기록/재생 장치
본 기술은 광의 회절 한계를 극복하여 기록 밀도를 획기적으로 증가시킬 수 있는 고밀도 근접장 광 기록/재생 장치에 관한 것이다.- 특징열 개구부를 이용한 근접장 발생과 이를 이용한 입력 광 레이저 파장 이하의 데이터 마크 크기 구현 및 미세 조절 액튜에이터에 의한 데이터 트랙 피치간의 위치 조정을 결합함으로써, 광의 회절 한계를 극복하여 기록 밀도를 획기적으로 증가시킬 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-01-21
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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