일반기술
플라즈마를 이용한 원자층 증착 방법
본 기술은 플라즈마를 이용한 원자층 증착방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 원료 프리커서와 반응하지 않는 캐리어 가스와 플라즈마 반응가스를 동일한 가스로 적용함으로써 플라즈마를 이용한 원자층 증착방법에 관한 것이다.플라즈마 챔버내에 반응가스에 의해 플라즈마가 온(ON)된 상태에서 증착원료 프리커서와 반응하지 않는 반응가스와 동일한 캐리어 가스를 사용하여 프리커서를 펄스(pulse) 형태로 주입함으로써 PECVD와 ALD 증착법의 장점을 접목시켜 전체적으로 공정시간을 줄일 수 있으며 보다 우수한 박막을 형성함과 동시에 캐리어 가스와 플라즈마 반응가스가 동일하기 때문에 이들의 교차에 의한 불균일한 플라즈마가 발생하는 것을 막을 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 기계 > 기타 기계
- 보유기관
- 한양대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-03-14
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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