일반기술
고분자 탄성 중합체를 사용한 자체 전사에 의한 미세패턴의 형성 방법
본 기술은 미세전사법에 있어서 TiO 2 등 산화박막의 광촉매 특성을 이용함으로써 종래와 같이 기판과 형판의 접착력을 증가시키기 위한 별도의 UVO 처리 및 열처리 또는 UV 경화 처리공정을 제거한 간단하고도 경제적인 미세패턴 형성방법을 제공한다.본 기술에 의한 고분자 탄성 중합체를 사용한 자체 전사에 의한 미세패턴의 형성방법은 고분자 탄성 중합체로 되는 특정 패턴의 형판과, 광촉매 물질로 되는 박막층이 코팅된 박막층 기판을 각각 제조하는 형판 및 박막층 기판의 제조 단계와, 형판과 기판을 정렬하여 접촉시키고 이에 광을 조사하여 상호 접착시키는 정렬 및 접착 단계와, 접착된 형판의 일부를 기판으로부터 분리해내어 특정 패턴을 기판에 전사하는 전사 단계를 포함하여 이루어진다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 고분자재료
- 보유기관
- 한양대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-01-22
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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