일반기술
전계 방출 표시장치 및 그 제조방법
본 기술은 에미터의 손상과 팁영역의 오염을 최소화하도록 한 전계 방출 표시장치의 포커싱 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.- 특징폴리이미드 대신 에칭이 용이한 감광성 포토레지스트 후막이 도포된 후, 노광 및 현상 공정에 의해 패터닝되고 2 단계 가열공정에 의해 열처리를 완충함으로써 기판과 감광성 포토레지스트 패턴의 밀착력을 증대시킴과 아울러 아웃개싱을 차단한다.에미터 구조에 무관하게 포커싱 절연층을 용이하게 형성할 수 있을 뿐 아니라 후막 포토레지스트를 사용하므로써 에칭공정이 용이하게 되어 공정수율을 높일 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-01-24
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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