일반기술

코발트 피티 나노입자 형성방법

<기술의 개요>본 기술은 코발트 피티 나노입자 형성방법에 관한 것으로서 절연체전구체(insulator polyamic acid)와 물리적 증착 및 열처리를 이용하여 코발트 피티 나노입자를 형성 및 성장시키면서, 입자 크기 내지 밀도 증가를 조절하고, 상대적으로 증가된 보자력을 갖도록 하는 코발트 피티 나노입자 형성방법에 관한 것이다.본 기술은 복수 차에 걸쳐 증착 및 열처리를 수행함에 따라서, 상대적으로 구분된 상태의 나노입자의 평균 크기의 증가를 조절할 수 있고, 보자력을 상대적으로 증가시킬 수 있는 코발트 피티 나노입자 형성방법을 제공한다.본 기술의 코발트 피티 나노입자 형성방법은 기판 위에 폴리이미드로 이루어진 절연체전구체 층을 형성하고, 절연체전구체 층 위에 코발트(Co)와 피티(Pt)를 배치하여 미리 정한 두께의 코발트 피티 박막(CoPt film)을 증착하고, 코발트 피티 박막과 상기 절연체전구체 층을 미리 정한 열처리 온도로 열처리하여 절연체전구체 층 위에 코발트 피티(CoPt) 나노입자를 형성하고, 코발트 피티 나노입자와 절연체전구체 층에게 복수 차에 걸쳐 증착 및 열처리를 수행하여, 증착 및 열처리 사이클 차수에 대응하게 나노입자 평균 크기를 증가시켜 성장된 코발트 피티 나노입자를 형성한다.