일반기술
플라즈마 모니터링 방법 및 플라즈마 모니터링 장치
본 기술은 플라즈마 공정 용기에 별도의 장치를 삽입할 필요없이, 기판 전류를 분석하여, 플라즈마 공정 장치와 독립적인 플라즈마 모니터링 장치 및 그 방법을 제공할 수 있다본 기술은 기판에 주기적인 전원을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 축전결합 플라즈마 발생 장치에 있어서, 기판을 통하여 흐르는 기판 전류를 측정하는 단계, 기판 전류를 처리하여 이온 포화 전류를 추출하는 단계를 포함한다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한양대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-01-30
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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