일반기술
ZnS 계 스퍼터링 타겟의 제조방법 및 이로써 얻어진 ZnS 계 스퍼터링 타겟
본 기술은 ZnS계 스퍼터링 타겟의 제조방법 및 이로써 얻어진 ZnS계 스퍼터링 타겟에 관한 것으로, ZnS 단독 또는 ZnS-SiO2 혼합 분말을 방전 플라즈마 소결 공정을 수행하여 ZnS계 스퍼터링 타겟의 제조방법 및 이로써 얻어진 ZnS계 스퍼터링 타겟에 관한 것이다.본 기술은 ZnS 단독 또는 ZnS-SiO2 혼합 분말을 방전 플라즈마 소결 공정을 수행하여 ZnS계 스퍼터링 타겟의 제조방법을 제공한다.또한 본 기술은 상기 방법으로 제조된 ZnS계 스퍼터링 타겟을 제공한다.본 기술에 따른 방전 플라즈마 소결 공정은 종래 열간 압축법과 비교하여 단시간으로 수행하여 결정립이 미세화된 고밀도의 소결체의 제조가 가능하고, 기계적 특성이 향상된 스퍼터링 타겟의 제조를 가능케 한다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 금속재료
- 보유기관
- 한양대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-01-30
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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