일반기술
자기조립 다층 분자막의 제조방법
본 기술은 자기조립 다층 분자막의 제조방법에 관한 것이다.본 기술은, (S1) 기판 표면에 분자층 증착법(MLD; Molecular Layer Deposition)을 이용하여 기상 반응에 의해 자기조립 유기 단분자막을 형성하는 단계, (S2)기판을 UV/O3 또는 O3로 처리하여 자기조립 유기 단분자막의 말단기를 -OH 또는 -COOH로 치환하는 단계 및 (S3)자기조립 유기 단분자막 상에 원자층 증착법(ALD; Atomic Layer Deposition)으로 금속 전구체를 반응시켜 금속 수산화물 단분자층을 형성하는 단계를 수행하되 (S1) 내지 (S3) 단계를 1사이클로 하여 반복 수행하는 자기조립 다층 분자막의 제조방법에 대한 것이다.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 재료
- 보유기관
- 한양대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-01-30
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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