일반기술

위상 반전 마스크 및 이의 제조방법

본 기술은 반사형 마스크에서 흡수영역이 반사영역과 180°의 위상차와 극자외선 파장에서의 6%이상의 반사도를 가지고 있도록 하고, 결함 검사 효율을 높이기 위해 DUV(Deep Ultra Violet) 파장에서의 5% 미만의 낮은 반사도를 가지고 있도록 하며, 쉐도우 효과(shadow effect)를 최소화하기 위해 50nm 이하의 두께를 가지고 있도록 하는 극자외선 노광 공정용 어테뉴에이티드 위상반전 마스크의 구조 및 이의 제조방법을 제공하는데 그 특징이 있다.본 기술에 따른 극자외선 노광공정용 어테뉴에이티드 위상반전 마스크에서는 이종의 물질이 교대로 적층된 다층박막(multilayer)을 기판 위에 형성한다.다층박막의 보호를 위해 캡핑층(capping layer)을 도포하고, 캡핑층 위에 위상을 반전시키기 위한 위상 반전막(phase shift layer)을 형성하며, 위상 반전막 위에 스페이서(spacer) 막을 형성하고, 스페이서 막 위에 극자외선에 대한 반사도를 낮추기 위한 어테뉴에이터(attenuater) 층을 도포한다. 이에 따라, 마스크 구조에 대하여 선택적인 위상반전 효과와 극자외선의 반사 효과를 얻기 위해 어테뉴에이터와 스페이서, 위상반전막을 식각 공정에 의해 제거하는 것이다.본 기술은 Mo와 Si의 다층박막과 Ru 캡핑층으로 구성되는 극자외선 반사다층 미러 상부에 위상반전막과 스페이서 막과 어테뉴에이터를 얇게 형성 및 제조가 가능하게 되어 흡수체의 높이(height)를 낮추어 쉐도우 효과(shadow effect)를 감소시킬 수 있다.