일반기술

플라즈마 모니터링 방법 및 플라즈마 모니터링 장치

본 기술은 플라즈마 모니터링 방법 및 그 장치를 제공한다. 본 기술에 따른 플라즈마 모니터링 방법은 기판에 주기적인 전원을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 장치에 있어서, 플라즈마로부터 기판을 통하여 흐르는 기판 전류를 측정하는 단계, 기판 전류를 처리하여 이온 포화 전류를 추출하는 단계를 포함한다. 여기서, 이온 포화 전류를 추출하는 단계는 기판 전류로 부터 변위전류를 구하고, 변위 전류가 최소가 되는 조건에서 수행할 수 있으며, 변위 전류가 최소가 되는 조건은 기판 전류를 이차 미분하여 영이 되는 조건일 수 있다. 또한, 전원에 의하여 기판에 인가되는 기판 전위를 측정하는 단계를 더 포함하되, 변위 전류가 최소가 되는 조건은 기판 전위가 최대인 조건에서 수행할 수 있다.본 기술에 따르면, 플라즈마 공정 용기에 별도의 장치를 삽입할 필요없이, 기판 전류를 분석하여, 플라즈마 공정 장치와 독립적인 플라즈마 모니터링 장치 및 그 방법을 제공할 수 있다.