일반기술

탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치 및 그 방법

본 기술은 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치 및 그 방법에 대한 것으로서 탐침 현미경을 이용하여 특정 조건에서 리소그래피를 수행하고, 특정 조건에 따른 리소그래피 결과를 데이터베이스로 구축하여 이를 기초로 수학적 모델을 도출한 후, 수학적 모델을 이용하여 리소그래피를 수행함으로써, 시행착오 없이 사용자가 원하는 형태의 나노 구조물을 반복하여 제작할 수 있는 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치 및 그 방법에 관한 것이다.본 기술에 따른 탐침 및 캔틸레버를 포함하여 구성되는 탐침 현미경을 이용하여 샘플 상에 리소그래피를 수행하는 장치는, 탐침 현미경의 탐침 또는 샘플에 일정시간 동안 전압을 인가하는 전압인가 수단, 인가된 전압에 의하여 발생된 전류를 측정하는 전류검출 수단, 리소그래피가 수행되는 환경의 온도 및 습도를 제어하는 환경제어 수단, 샘플 상에 형성된 나노구조물의 높이를 측정하는 표면측정 수단, 인가된 전압의 크기, 전압 인가 시간, 발생된 전류, 환경의 온도 및 습도, 형성된 나노구조물의 높이를 포함하여 구성되는 데이터베이스를 구축하고, 데이터베이스를 기초로 샘플의 산화 모델을 계산하는 중앙제어 수단을 포함한다.본 기술에 따르면, 광센서(Photo Sensitive Detector, PSD)를 사용하는 경우 별도의 데이터베이스 구축 없이 시간에 따른 나노구조물의 높이에 대한 수학적 모델을 얻을 수 있고, 그 수학적 모델을 이용하여 나노 구조물을 얻기 위한 시스템 조건 을 계산할 수 있으며, 이러한 조건으로 리소그래피를 수행함으로써 사용자가 원하는 형태의 나노 구조물을 일정하게 반복적으로 제작할 수 있으므로, 상당한 상업적-경제적 효과가 기대된다.