일반기술
박막 트랜지스터 제조방법
기술의 개요 - 본 기술은 박막 트랜지스터 제조방법에 관한 것이다.기술의 특징 - 본 기술은 비정질실리콘 대신 마이크로 크리스탈라인 실리콘을 증착시킨 후 레이저 어닐링하여 활성층을 형성함으로써 탈수화현상에 의한 활성층의 막질의 저하를 방지할 수 있으며, 제조가 용이할 뿐만 아니라 수율을 증가시킬 수 있는 효과를 도출한다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전기/전자
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-01
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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