일반기술
고출력 반도체 레이저의 제조방법
기술의 개요 - 본 기술은 고출력 반도체 레이저의 제조방법에 관한 것이다.기술의 효과 - 본 기술은 전류 제한층을 표면이 균일하도록 하는 유기금속 화학증착볍으로 성장시켜 정확한 공정조절을 용이하게 할 뿐만 아니라 수율 및 생산성을 향상시키고 재현성을 용이하게 하며, 또한 기판홈과 전류 제한층을 별도의 공정으로 각각 형성하여 전류제한층의 전기도통부 크기에 관계없이 독립적으로 출력광의 래미터널 모드를 조절하는 효과를 도출한다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 한국산업기술진흥원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2008-02-04
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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